技術(shù)編號：3262819
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及濺射鍍膜，特別涉及。背景技術(shù)濺射鍍膜是利用高能離子束將靶材中高純靶質(zhì)的原子轟擊出來，并沉積在基板上的過程；如圖1、圖2所示，現(xiàn)有的靶材一般包括具有固定孔11的背銅板10、高純靶質(zhì)20和將高純靶質(zhì)20固定在背銅板10上的連接部30 ;在濺射鍍膜過程中，隨著高純靶質(zhì)20原子不斷的被轟擊出來，高純靶質(zhì)20逐漸被消耗掉；由于濺射鍍膜工藝的特殊性，在圖2中A和B兩個區(qū)域內(nèi)高純靶質(zhì)20消耗的最快，即在A和B兩個區(qū)域內(nèi)高純靶質(zhì)20最容易被濺射透，這就需要及時地...
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