技術編號：3294908
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明公開了一種硅酸鹽類熒光粉及其表面包覆氧化物隔膜薄膜的裝置和工藝，其中，所述裝置中設有熒光粉特用沉積室，所述沉積室為單層或多層結構設置，每層沉積室由熒光粉沉積區(qū)域（1）和布滿沉積區(qū)域（1）周圍的氣道（2）構成，所述氣道為原子層沉積的前驅體以及載氣的進入和排出的管路。本發(fā)明實現(xiàn)了原子層沉積（ALD)技術在熒光粉外圍包覆隔膜薄膜層以提高其性能的目的。本發(fā)明在ALD技術的基礎上發(fā)明一種特用熒光粉包覆的沉積室，并進一步改進原子層沉積的工藝以滿足熒光粉包覆的要求...
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