技術編號：3295379
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明公開了一種用于化學氣相沉積的高溫加熱沉積臺，屬于材料制備加工領域。本發(fā)明改進了加熱式沉積臺的設計，在沉積臺臺面的內(nèi)表面鍍覆了一層100nm的氧化鉻薄膜，利用氧化鉻0.8的黑體系數(shù)提高了沉積臺臺面接收熱輻射的效率。同時，對于密封在沉積臺內(nèi)部的加熱體，其絕緣體支撐件被設計成陶瓷柱陣列，在不影響支撐功能的同時，提高了加熱體的散熱效率。這些改進使得這種新型的高溫加熱沉積臺的加熱效率與穩(wěn)定性得以大幅提高，并可以在700℃～1000℃溫度段內(nèi)持續(xù)穩(wěn)定工作，填補了...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。