技術編號：3307986
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。一種用于等離子體增強式化學氣相沉積(Plasma?Enhanced?Chemical?Vapor?Deposition，PECVD)裝置的分段式天線組件。于一實施例中，所述裝置包括具有上表面及下表面的處理室體、天線以及電介質(zhì)層。天線包括第一段、第二段以及第三段。第二段電耦接于第一段，并延伸通過處理室體的內(nèi)部空間。第三段電耦接于第二段。電介質(zhì)層設置于所述第二段的外徑的周圍。專利說明分段式天線組件 [0001]本發(fā)明的實施例一般地關于一種用于等離子體增強...
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