技術(shù)編號(hào)：3313430
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種鍍膜系統(tǒng)及鍍膜方法，尤其涉及。它包括準(zhǔn)靜態(tài)鍍膜腔室、設(shè)置在準(zhǔn)靜態(tài)鍍膜腔室內(nèi)的用于對(duì)基板表面進(jìn)行沉積鍍膜的鍍膜組件；以及設(shè)置在準(zhǔn)靜態(tài)鍍膜腔室內(nèi)的可用于對(duì)基板進(jìn)行往復(fù)掃描的傳輸組件；鍍膜組件包括兩個(gè)或兩個(gè)以上平行排列的靶材，往復(fù)掃描的距離是任何小于相鄰靶材間距的距離。鍍膜方法是將基板放置在基板架載體上，使基板進(jìn)入所述準(zhǔn)靜態(tài)鍍膜腔室并且使基板的待鍍膜面朝向所述準(zhǔn)靜態(tài)鍍膜腔室內(nèi)的鍍膜組件，使基板進(jìn)行往復(fù)掃描鍍膜，實(shí)現(xiàn)鍍膜的均勻性。本發(fā)明系統(tǒng)和方法有別...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。