技術(shù)編號(hào)：3314784
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了一種大面積平板式PECVD設(shè)備反應(yīng)腔壓力的控制裝置，包括反應(yīng)腔體，所述反應(yīng)腔體入口端與送氣系統(tǒng)連通，所述反應(yīng)腔體出口端通過氣路管道與真空泵連通，所述反應(yīng)腔體與所述真空泵之間的氣路管道上安裝有真空蝶閥；所述真空蝶閥與所述反應(yīng)腔體之間的氣路管道與微調(diào)氣路連通，所述微調(diào)氣路由質(zhì)量流量控制器和相應(yīng)的管道組成。所述的反應(yīng)腔體出口端氣路管道安裝有壓力傳感器；所述真空蝶閥的電子執(zhí)行器、微調(diào)氣路中的質(zhì)量流量控制器與控制器連接。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了PECVD工藝準(zhǔn)備階段...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。