技術編號：3316475
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明公開了一種真空電離鍍膜機，包括真空室、電離頭、真空管道、真空泵、靶子架、高壓發(fā)生器和送料器，真空室一端設置有電離頭，電離頭后端設置有送料器，真空室另一端設置有真空管道，真空管道連接有真空泵，靶子架設置在真空管道前端，高壓發(fā)生器設置在真空室外，高壓發(fā)生器一端連接有電離頭，另一端連接有靶子架。通過上述方式，本發(fā)明真空電離鍍膜機具有可靠性能高、結構緊湊、鍍膜效果好、鍍膜速度快，成膜均勻，適合金屬的快速鍍膜、生產效率高、操作簡便等優(yōu)點，同時在鍍膜領域上有著廣...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。