技術(shù)編號(hào):3316794
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了,目的在于解決目前研究的阻氚鍍層的氚滲透降低系數(shù)(PRF)都遠(yuǎn)小于理論值,阻氚效果較差的的問題。其包括基體、設(shè)置在基體上的多層膜,多層膜由Er2O3鍍層、SiC鍍層交替沉積而成。本發(fā)明采用Er2O3和SiC兩種鍍層復(fù)合,形成含有多層結(jié)構(gòu)的阻氚鍍層,且該阻氚鍍層同時(shí)引入了C-、O-、Si-等氫捕獲鍵,能夠有效改善基體的阻氚性能;同時(shí)本發(fā)明在Er2O3和SiC鍍層之間形成界面,降低了阻氚鍍層貫穿性的空洞和缺陷的出現(xiàn)幾率,提高了鍍層整體的致密度,減少...
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