技術(shù)編號(hào)：3319698
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了。本發(fā)明方法不需要昂貴的實(shí)驗(yàn)設(shè)備，在使用臭氧等離子刻蝕機(jī)進(jìn)行表面親水化處理后，刮涂在實(shí)現(xiàn)透明導(dǎo)電薄膜的制備，刮涂完成后用快速干燥，然后經(jīng)一定處理提高薄膜導(dǎo)電性、涂覆保護(hù)層提高薄膜穩(wěn)定性后就實(shí)現(xiàn)了高導(dǎo)電性、高透過率、高穩(wěn)定性、低霧度的金屬納米線透明導(dǎo)電薄膜的制備。本發(fā)明方法操作簡單，成本低，可用于大規(guī)模生產(chǎn)。專利說明 [0001] 本發(fā)明涉及一種透明導(dǎo)電薄膜的制備方法，具體涉及一種高性能金屬納米線透明 導(dǎo)電薄膜的制備方法。 背景技術(shù) [...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。