技術(shù)編號(hào)：3320656
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種應(yīng)用于鎳磷化學(xué)鍍前的除膜活化劑及生產(chǎn)方法，尤其是一種使用量少、成本低、除膜速度快的。背景技術(shù)化學(xué)鍍是依靠化學(xué)鍍液中的化學(xué)反應(yīng)來提供金屬離子還原所需要的電子，當(dāng)金屬離子吸收電子后即在工件表面均勻地沉淀以形成鍍膜。由于化學(xué)鍍液的分散力接近100%， 無明顯的邊緣效應(yīng)且鍍層厚度非常均勻、平整、致密、無孔，特別適合形狀復(fù)雜的工件(腔體件、深孔件、盲孔件、管件內(nèi)壁等)表面施鍍，其鍍層耐蝕性遠(yuǎn)優(yōu)于電鍍。同時(shí)化學(xué)鍍工藝無需整流電源、輸電系統(tǒng)及輔助電板，操作...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。