技術(shù)編號(hào)：3325559
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及薄膜和涂層制備領(lǐng)域，具體地說是研制一種特殊的電弧離子鍍柱狀靶弧源及附屬部件，用以在長(zhǎng)管件內(nèi)表面和深孔器件孔內(nèi)壁沉積薄膜和涂層，實(shí)現(xiàn)軍工和特殊部件內(nèi)壁表面改性目的。其特征在于該長(zhǎng)管件內(nèi)壁鍍膜的電弧離子鍍裝置，設(shè)有真空室、柱狀靶弧源、引弧裝置、固定管件的樣品架、圓形均氣管、樣品架加熱系統(tǒng)、陰極靶材與樣品架偏壓系統(tǒng)、抽真空系統(tǒng)、控制柜、陰極靶電源、偏壓電源和工作臺(tái)。本發(fā)明的目的是提供一種新型的由柱狀靶弧源及附屬部件實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)管件內(nèi)壁鍍膜的電弧離子鍍裝置，用...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。