技術(shù)編號：3330337
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種鍍膜系統(tǒng)，尤其涉及一種準(zhǔn)靜態(tài)鍍膜系統(tǒng)。它包括準(zhǔn)靜態(tài)鍍膜腔室、設(shè)置在準(zhǔn)靜態(tài)鍍膜腔室內(nèi)的用于對基板表面進(jìn)行沉積鍍膜的鍍膜組件；以及設(shè)置在準(zhǔn)靜態(tài)鍍膜腔室內(nèi)的可用于對基板進(jìn)行往復(fù)掃描的傳輸組件；鍍膜組件包括兩個(gè)或兩個(gè)以上平行排列的靶材，往復(fù)掃描的距離是任何小于相鄰靶材間距的距離。本實(shí)用新型系統(tǒng)有別于其他的例如基板不動的靜態(tài)鍍膜系統(tǒng),通過靶材內(nèi)部的磁棒位置的移動提高鍍膜均勻度。專利說明一種準(zhǔn)靜態(tài)鍍膜系統(tǒng) [0001] 本實(shí)用新型涉及一種鍍膜系...
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