技術(shù)編號:3345280
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種多晶硅生產(chǎn)技術(shù),特別是。 背景技術(shù)改良西門子法生產(chǎn)多晶硅中,還原爐內(nèi)通過氣相沉積制備棒狀多晶硅所用的多晶硅硅芯必須均相、潔凈無雜質(zhì),而通過硅芯爐拉制得的硅芯表面有較多的硅顆粒、金屬氧化物及S^2等分散相及雜質(zhì),必須通過腐蝕手段除去這些雜質(zhì),以利于在還原爐內(nèi)生長多晶硅硅棒,傳統(tǒng)的方法是用濃硝酸和氫氟酸體積比3廣41的混合酸對其進行腐蝕處理。腐蝕處理在通風柜內(nèi)進行,腐蝕過程中產(chǎn)生的揮發(fā)成分含有HF,NOx等有害氣體,同時產(chǎn)生含 HNO3, HF,...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。