技術(shù)編號：3362995
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種，特別地涉及用于掩模板 (reticle)的石英玻璃基板和用于納米壓印的玻璃基板，這些都是半導(dǎo)體相關(guān)電子材料中 的最先進(jìn)的應(yīng)用材料。背景技術(shù)人造石英玻璃基板品質(zhì)的例子包括尺寸和基板上的缺陷密度，基板的平整度，基板的表面粗糙度，基板材料的光化學(xué)穩(wěn)定性和基板表面的化學(xué)穩(wěn)定性。伴隨著朝向更高精 度的設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展趨勢，關(guān)于這些品質(zhì)的需要已經(jīng)變得更嚴(yán)格。在利用波長為193nm的 ArF激光源的光刻技術(shù)中以及基于ArF激光源和浸入法(immersion...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。