技術(shù)編號(hào):3365240
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及的是一種超構(gòu)材料的制備方法,尤其涉及的是一種大面積二維超構(gòu)材 料的制備方法。背景技術(shù)目前,超構(gòu)材料(Metamaterials)由于其獨(dú)特的電磁響應(yīng)及其在負(fù)折射材料、 完美透鏡和隱身材料等方面的廣泛應(yīng)用前景,而受到人們的廣泛關(guān)注。如何快捷有效的 制備大面積,尤其是厘米級(jí)的超構(gòu)材料始終是人們關(guān)注的熱點(diǎn)問(wèn)題。迄今為止,制備超 購(gòu)材料的方法主要有電子束曝光技術(shù)(electron-beamlithography)(參見(jiàn)S. Linden et al.,S...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。