技術(shù)編號：3389136
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。一種屬于場致電子發(fā)射。1991年美國MIT林肯實(shí)驗(yàn)室Geis等人(IEEE Electron Device Letters，12(8)(1991)pp456)在p型金剛石襯底上外延單晶金剛石薄膜，注入碳使外延層為n型，首次觀察到p型襯底的場發(fā)射。1995年Givargizov等人(J.Vac.Sci.Technol.B13(1995)pp414)在硅尖上生長單晶金剛石微粒，也觀察到較高的發(fā)射電流。由于單晶金剛石薄膜難以制備，因而這方面的研究工作進(jìn)展緩慢。目...
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