技術編號：3389840
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及用在曝光波長為300nm或更低的平版印刷中的相移掩模坯體，以及制造這種掩模坯體的方法。本發(fā)明要求享有序列號為10/655,593的美國專利申請以及申請?zhí)枮?4001359.1和04008566.4的歐洲專利申請的優(yōu)先權(quán)，這些申請的內(nèi)容此處引入作為參考。背景技術相移掩模作為將平版印刷工具分辨率、對比度和深度焦點延伸超出普通二元掩模技術可獲取程度的手段已引起極大的關注。在幾種相移方案中，由Burn J.Lin在Solid State Technolo...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權(quán)，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。