技術(shù)編號(hào)：3391681
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供了。背景技術(shù) 通常用光刻方法來對(duì)襯底進(jìn)行圖形化。用這種技術(shù)能夠產(chǎn)生的最小圖形受到光刻分辨率的限制，亦即受到光刻中所用光源發(fā)射的光的波長(zhǎng)以及所用光抗蝕劑的圖形化最小尺度的限制。用已知的157nm光刻技術(shù)所能夠產(chǎn)生的最小尺度約為50nm。但要得到這一尺度是很費(fèi)勁的，因而僅僅當(dāng)襯底圖形化數(shù)量不大時(shí)才值得去做。因此，由于目前還無法獲得能夠產(chǎn)生波長(zhǎng)小于100nm的光的光源和相應(yīng)的光抗蝕劑，故通常用電子束光刻或聚焦電子束或離子束技術(shù)來得到尺度小于100nm的...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。