技術編號：3394834
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及用來在基片上形成絕緣光學涂層的非常低壓力的。在這種應用中的本發(fā)明涉及光學干涉濾光片這一專業(yè)，這種光學干涉濾光片適用于(例如)激光鏡和輸出耦合器。在這種類型的薄膜里，薄膜散射、吸收和缺陷必需維持在最低程度。至今，只知在這方面作出成功努力的薄膜加工方法是離子束濺射(IBS)或一種較小程度的離子輔助淀積(IAD)。下面將進一步介紹IBS?，F(xiàn)有技術利用IBS已制造出需要非常低水平的散射和吸收的光學涂層。使用這種方法，將在一非常高真空環(huán)境里將在500至15...
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