技術(shù)編號：3411097
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及電磁場約束電感耦合等離子體增強氣相沉積薄膜復(fù)合系統(tǒng)，屬于薄膜材料制備設(shè)備領(lǐng)域。背景技術(shù)近幾十年來，薄膜材料科學(xué)取得了令人矚目的成就，具有優(yōu)異綜合性能和廣泛應(yīng)用前景的新型薄膜材料層出不窮。作為現(xiàn)代材料科學(xué)中發(fā)展最為迅速的一個分支，它正在科學(xué)技術(shù)和國民經(jīng)濟(jì)建設(shè)的各個領(lǐng)域中發(fā)揮著愈來愈重要的作用，新型薄膜材料的研究和開發(fā)為微電子學(xué)、光電子學(xué)和磁電子學(xué)等新興交叉學(xué)科的發(fā)展提供了材料基礎(chǔ)。通過成膜技術(shù)，在體材料(襯底)表面沉積一層性質(zhì)與體材料性質(zhì)迥異的薄膜...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。