技術編號：3411770
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及在直列式等離子體涂覆設備中借助等離子體增強的化學氣相沉積(PECVD)將多層式層和/或梯度層沉積到至少ー個基底上的方法，該直列式等離子體涂覆設備包括至少ー個加工室，其中在這些基底的輸送方向上依次安排了至少兩個単獨的等離子體源?，F(xiàn)在多層式層是例如被用于改進絕熱性、増大反射或減小反射或另外用于不同載體材料上的熱吸收。所用的載體主要是由不同材料構(gòu)成的板或膜，并且這些在此情況下可以具有不同的尺寸和厚度。應用包括例如建筑玻璃的表面精整、在照明技術或太陽熱能...
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