技術(shù)編號：3414525
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種，特別是涉及一種能夠提高基板處理中的面內(nèi)均勻性的控制裝置及其控制方法。背景技術(shù)以往，在CVD裝置等的基板處理裝置中，通過向基板上供給處理氣體來在基板上進(jìn)行成膜。在這種情況下，一邊旋轉(zhuǎn)基板一邊持續(xù)一定時間地供給處理氣體，因此基板旋轉(zhuǎn)周期很少對基板處理中的面內(nèi)均勻性造成影響。然而，近年來對于基板上的成膜的微細(xì)化的要求變高，使得以短期間斷續(xù)地供給處理氣體。在這種情況下，已判明了基板的旋轉(zhuǎn)周期和處理氣體的供給周期的關(guān)系會影響基板處理中的面內(nèi)均勻性。已...
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