技術(shù)編號(hào)：3426210
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種多弧離子鍍的電弧引弧方法及裝置，尤指一種真空電弧自動(dòng)引弧方法及裝置。在薄膜沉積過程中，通常由于各種原因，如靶材表面狀況，電源波動(dòng)等，會(huì)造成意外地電弧熄滅。因?yàn)閰⑴c鍍膜的成分通常還包括氣相部分，短時(shí)間的電弧熄滅通常也會(huì)造成鍍膜氣壓的波動(dòng)。從而引起膜層成分的波動(dòng)，使得結(jié)構(gòu)、成分出現(xiàn)偏差，影響鍍件的性能；也會(huì)使產(chǎn)品顏色出現(xiàn)差異，影響產(chǎn)品的外觀質(zhì)量。本發(fā)明的內(nèi)容本發(fā)明的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的缺點(diǎn)而提供一種在鍍膜開始時(shí)可自動(dòng)引弧，在鍍膜過程中出現(xiàn)熄...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。