技術(shù)編號(hào):3547409
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。锍衍生物及其作為潛酸的用途本發(fā)明涉及帶有可聚合烯鍵式不飽和基團(tuán)的新型锍鹽,包含由所述化合物衍生的 重復(fù)單元的聚合物,包含所述化合物和/或所述聚合物的化學(xué)放大的光致抗蝕劑,以及所 述化合物和/或聚合物作為潛酸的用途,所述化合物和/或聚合物可通過用光化電磁輻射 及電子束照射而活化。在EP473547中描述了帶有不飽和雙鍵的鐺鹽,例如,4_丙烯酰氧基苯基二苯基锍 鹽,和包含所述鐺鹽的聚合物。在W02002-73308和SPIE (2001)記錄,4345,521...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。