技術(shù)編號(hào)：3655344
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及可用于光致抗蝕劑組合物的交聯(lián)劑，其聚合物，以及含有該交聯(lián)劑的光致抗蝕劑組合物。更具體地說(shuō)，本發(fā)明涉及用于光致抗蝕劑的交聯(lián)劑以及使用該交聯(lián)劑的光致抗蝕劑組合物，該光致抗蝕劑適用于當(dāng)制備一種高度集成的半導(dǎo)體元件的微電路時(shí)使用KrF(248nm)，ArF(193nm)，電子束，離子束或EUV光源的照相平板印刷法中。近年來(lái)，已經(jīng)證明化學(xué)放大型DUV(深紫外)光致抗蝕劑在半導(dǎo)體制造業(yè)中用于制造微電路的過(guò)程中能用于獲得高的靈敏度。這些光致抗蝕劑通常是將光酸發(fā)...
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