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      導(dǎo)電性高分子蝕刻用墨液及導(dǎo)電性高分子的圖案化方法技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號(hào):3732281

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      本發(fā)明涉及。背景技術(shù)目前,透明導(dǎo)電膜雖然主要是使用含有銦的ITO(氧化銦錫),但是In是一種可采蘊(yùn)藏量為三千噸的稀少元素,因此也有如果提前,則可采蘊(yùn)藏量即將在2011年至2013年的時(shí)候被耗盡的預(yù)測(cè),因此正在進(jìn)行不使用In的ITO替代材料的研究。導(dǎo)電性高分子的導(dǎo)電率是已有驚人的改善,因此導(dǎo)電性高分子是有希望用作為ITO的替代材料。該導(dǎo)電性高分子是具有導(dǎo)電性、光的透射性、發(fā)光性、成膜后也呈可撓性的特征,因此已在進(jìn)行對(duì)于透明導(dǎo)電膜、電解電容器、抗靜電劑、電池、...
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