技術(shù)編號：3819425
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及表面經(jīng)硅烷化合物處理的中空二氧化硅微粒、其制造方 法、含有該中空二氧化硅微粒的透明涂膜形成用組合物、及表面具有該透明涂膜形成用組合物固化形成的透明涂膜的基材。 背景技術(shù)目前已經(jīng)公開了一種粒徑約為0.1 38(^m的中空二氧化硅粒子(參 見專利文獻(xiàn)l、專利文獻(xiàn)2)。另外，公開了一種制備由致密的二氧化硅, 外殼構(gòu)成的中空粒子的方法，所述方法通過使活性二氧化硅從堿金屬硅 酸鹽水溶液中沉淀至由二氧化硅以外的材料構(gòu)成的核上，以不破壞二氧 化硅外殼的方式除去...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。