技術(shù)編號：39345667
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及對位芳綸材料制備，尤其涉及一種基于改性芳綸涂層的自著色抗紫外對位芳綸材料及其制備方法。背景技術(shù)、對位芳綸因其高度規(guī)整液晶結(jié)構(gòu)以及高強高模特性而被廣泛應用在國防軍工、航空航天及個體防護等領(lǐng)域。然而，因其分子鏈酰胺鍵不耐受紫外，容易在紫外線輻照下斷裂發(fā)生力學性能下降，減少使用壽命，影響了對位芳綸的應用。因此，有必要改善芳綸的抗紫外效果。、目前，改善芳綸抗紫外效果主要通過在表面構(gòu)建抗紫外涂層來實現(xiàn)。例如，公開號為cna的專利提供了一種抗紫外線對位芳綸纖維及其制備方法以及...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。