技術(shù)編號(hào)：39416453
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本技術(shù)涉及絕緣膜，具體是一種具有金屬層的絕緣膜。背景技術(shù)、絕緣膜是能夠保證良好電絕緣性的薄膜。這種薄膜應(yīng)當(dāng)具有很高的電阻率(高于ω·cm)和擊穿場(chǎng)強(qiáng)，而電子結(jié)構(gòu)特點(diǎn)是禁帶寬度大。為了用于高頻絕緣，還要求材料具有低的介電損耗。絕緣膜有無機(jī)和有機(jī)兩類，無機(jī)絕緣體通常稱為電介質(zhì)，常用的有氧化硅、氮化硅、氧化鋁、氮化鋁；常用的有機(jī)絕緣膜材料有聚酰亞胺、聚乙烯、聚偏二氟乙烯、聚四氟乙烯。、對(duì)于現(xiàn)在的絕緣膜在進(jìn)行使用時(shí)，由于就是單一的絕緣性能沒有了其他的效果，且在進(jìn)行使用時(shí)強(qiáng)度不夠容易破裂損壞，...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。