技術(shù)編號：39614849
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請涉及硅晶片清潔，具體涉及一種硅晶片表面顆粒超聲振動清潔裝置及清潔方法。背景技術(shù)、硅晶片也稱晶圓片，是由硅材料制成的一種圓形薄片，主要用于半導(dǎo)體制造和電子器件的生產(chǎn)，硅晶片作為半導(dǎo)體行業(yè)的基礎(chǔ)材料，廣泛應(yīng)用于集成電路、光電器件、傳感器等制造中。、在硅晶片的生產(chǎn)加工過程中，為了確保后續(xù)加工步驟的質(zhì)量和性能，通常要對硅晶片進(jìn)行清洗，從而去除硅晶片表面的污染物顆粒。常見的硅晶片清洗方法包括去離子水清洗、化學(xué)藥劑清洗以及超聲波清洗，其中，超聲波清洗是利用超聲波的空化作用產(chǎn)生大量氣泡并對物體表面的...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。