技術(shù)編號：39619504
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于高分子復(fù)合材料制備，特別涉及一種中空二氧化硅光子晶體-石墨烯量子點復(fù)合薄膜及其制備方法和應(yīng)用。背景技術(shù)、目前，市場上已經(jīng)存在多種防偽技術(shù)，用于保護(hù)商品免受偽劣產(chǎn)品和盜版侵害。其中包括條形碼、二維碼、水印、磁性防偽、激光雕刻等技術(shù)。這些技術(shù)在一定程度上確實提高了商品的安全性和可追溯性。然而，隨著科技的不斷進(jìn)步和偽造技術(shù)的不斷發(fā)展，現(xiàn)有的防偽技術(shù)已經(jīng)面臨一定的挑戰(zhàn)，其中不乏多種商品認(rèn)證標(biāo)簽的偽造和盜用。因此，我們需要不斷創(chuàng)新和改進(jìn)現(xiàn)有的防偽技術(shù)，以適應(yīng)市場的需求。、結(jié)構(gòu)色與熒光協(xié)同發(fā)光...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。