技術(shù)編號：39621338
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及為了得到與光學(xué)元件的透射率或反射率相關(guān)的信息的測量裝置、曝光裝置、物品的制造方法以及測量方法。背景技術(shù)、作為在平板顯示器、半導(dǎo)體器件的制造工序(光刻工序)中使用的裝置之一，存在將由照明光學(xué)系統(tǒng)照明的原版的圖案經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)投影到基板上而對該基板進(jìn)行曝光的曝光裝置。已知在曝光裝置中使用的基板涂布有抗蝕劑，通過抗蝕劑被曝光，從而從抗蝕劑產(chǎn)生污染物質(zhì)。已知該污染物質(zhì)通過與周圍的氣氛中的酸、堿、有機(jī)等雜質(zhì)、搭載于曝光裝置的光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)元件的膜的酸、堿、有機(jī)等雜質(zhì)反應(yīng)，使位于基板周邊的光學(xué)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。