技術(shù)編號：39992389
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本技術(shù)涉及一種版庫組件，尤其涉及一種曝光機的掩膜版的版庫組件。背景技術(shù)、在半導體芯片的生產(chǎn)中會利用到曝光機，而曝光機會使用到掩膜版，而掩膜版的種類非常多，晶圓上的圖案有時候可能需要多次曝光形成，因此曝光機就會需要多個掩膜版，而目前掩膜版一般都是放置在放置盒內(nèi)，然后在曝光工藝中，將需要用到的掩膜版人工都取出放置在曝光機的方式平臺上，然后再利用機械手將平臺上的掩膜版送入到光刻機內(nèi)進行曝光操作，使用完成后，再利用機械手將掩膜版送出到放置平臺上，而后需要人工將掩膜版再放入到放置盒內(nèi)，而這種人工取出放入...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。