技術(shù)編號(hào)：39997320
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明的一方式涉及圖案檢查方法以及圖案檢查裝置。例如，涉及檢查在半導(dǎo)體制造中使用的曝光用掩模的圖案缺陷的裝置以及該裝置的自動(dòng)聚焦(autofocus)控制。背景技術(shù)、近年來，伴隨大規(guī)模集成電路(lsi)的高集成化以及大容量化，半導(dǎo)體元件所要求的電路線寬越來越窄。這些半導(dǎo)體元件使用形成有電路圖案的原畫圖案(也稱作掩?；蛘咧虚g掩模，以下，通稱作掩模)，利用被稱作所謂的步進(jìn)曝光裝置的縮小投影曝光裝置將圖案曝光轉(zhuǎn)印于晶片上從而形成電路，由此進(jìn)行制造。、而且，對(duì)于制造成本高昂的lsi的制造，成品率的提...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。