技術編號：40277516
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明屬于半導體生產(chǎn)，具體為一種用于半導體剝離液的回收裝置。背景技術、半導體剝離液，指的是在半導體生產(chǎn)環(huán)節(jié)中，光刻環(huán)節(jié)所使用的一種清除用溶液。在光刻環(huán)節(jié)中，當硅片完成曝光步驟后，若需要更換不同的光刻圖案，就需要使用剝離液來將現(xiàn)有的光刻膠進行清除。在使用剝離液時，首先將剝離液均勻的涂覆在硅片表面，隨后將涂覆后的硅片浸泡在適當?shù)臏囟认拢S后使用去離子水等清洗液清洗硅片，以去除殘留的剝離液和光刻膠，此時剝離液廢液中含有多種有機溶劑和金屬離子，若直接排放會對環(huán)境造成污染，同時會造成廢液中金屬離子和有機...
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