技術(shù)編號：40278597
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提出了一種icp-ms痕量檢測空氣中金屬離子含量的方法，涉及環(huán)境檢測。背景技術(shù)、在半導(dǎo)體高精密元器件質(zhì)量控制行業(yè)中目前控制無塵室潔凈度的方法主要為檢測空氣中的particel含量，表征比較單一，且根據(jù)不同工藝對parts會有不同的離子含量要求；本方法致力于解決半導(dǎo)體集成電路芯片相關(guān)高精密產(chǎn)品表面質(zhì)量控制行業(yè)對潔凈室除particel之外的表征方式。確定無塵室的潔凈度對parts來說可以避免清洗后產(chǎn)品因包裝環(huán)境含有較多離子對產(chǎn)品產(chǎn)生二次污染，亦可以防止空氣中離子濃度過高對人體造成傷害。因此...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。