技術(shù)編號(hào)：40278745
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及芯片制造領(lǐng)域，尤其涉及一種芯片制造所用廢氣排放管道的密封裝置。背景技術(shù)、在芯片的制造過程中，晶圓在沉積步驟之后就會(huì)被涂覆光敏材料光刻膠，并通過光刻技術(shù)將設(shè)計(jì)好的電路圖案轉(zhuǎn)移到晶圓上，然后通過刻蝕和離子注入等步驟，將電路圖案進(jìn)一步加工成具有特定功能的晶體管等元件，這就是所謂的光刻和蝕刻。在此過程中一方面常會(huì)使用到一些高危、高濃度化學(xué)品，如清洗劑、抗蝕劑、剝離液等溶劑或其它酸堿類物質(zhì)，另一方面光刻過程中所需的光源純凈度很高，凈化光束時(shí)會(huì)使用真空室來抽走光束中的氣體分子和其他雜質(zhì)，以減少光...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。