技術編號：40281006
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及鍍膜，尤其是涉及一種高硬度鍍膜方法。背景技術、磁控濺射鍍膜是指將涂層材料作為靶陰極、利用氬離子轟擊靶材，產生陰極濺射，把靶材粒子濺射到工件上形成沉積層的一種鍍膜技術。原理是通過氬氣在異常輝光放電產生的等離子體在電場的作用下，對靶陰極表面進行轟擊，靶陰極表面的分子、原子、離子及電子等粒子濺射出來并帶有一定的動能，粒子沿一定的方向射向工件表面，從而在工件表面形成鍍層。、磁控濺射鍍膜是應用最廣泛的一種濺射沉積方法，應用到光學、材料、半導體、電子等領域。通過在玻璃、藍寶石或陶瓷表面鍍上導電...
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