技術(shù)編號(hào)：40281129
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請(qǐng)涉及蒸鍍，尤其涉及一種蒸鍍機(jī)對(duì)位系統(tǒng)。背景技術(shù)、有機(jī)發(fā)光二極管顯示器具有低能耗、自發(fā)光、寬視角及響應(yīng)速度快等優(yōu)點(diǎn)，是當(dāng)今顯示器研究領(lǐng)域的熱點(diǎn)之一，被認(rèn)為是下一代顯示技術(shù)。目前，oled器件的制作通常使用真空熱蒸鍍?cè)O(shè)備進(jìn)行oled器件薄膜的沉積。精細(xì)掩模板是用于oled器件制作的蒸鍍過(guò)程中圖案化有機(jī)像素成型的工具。使用精細(xì)掩模板路線生產(chǎn)real?rgb結(jié)構(gòu)的硅基micro?oled，要求所需蒸鍍?cè)O(shè)備制備的oled器件像素陰影小于.μm，掩模板與硅基板的對(duì)位精度小于.μm。傳統(tǒng)蒸鍍機(jī)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。