技術(shù)編號：40281580
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體光刻設(shè)備領(lǐng)域，具體是一種用于ldi曝光機水平向標(biāo)定誤差監(jiān)測及補償?shù)姆椒?。背景技術(shù)、套刻為ldi曝光機水平向驗收時的重要指標(biāo)，曝光機曝光流程如中國專利公布的一種雙臺面直寫曝光機(公開號cnu)，裝配有曝光機構(gòu)、運動工件臺、對位系統(tǒng)等部件，現(xiàn)有的ldi曝光機由于水平向標(biāo)定誤差因素的影響，套刻測試過程中會導(dǎo)致圓與圓環(huán)中心位置存在一定偏差，套刻誤差過大會降低后續(xù)生產(chǎn)中的良品率。、且由于水平向誤差值由多個子系統(tǒng)的誤差耦合構(gòu)成，現(xiàn)有方案無法在不增加額外的傳感器的情況下，...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。