技術(shù)編號：40282956
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及光刻機溫度控制，具體為一種光刻機超靜態(tài)精密溫度供液控制系統(tǒng)。背景技術(shù)、光刻技術(shù)在半導體制造中扮演著至關(guān)重要的角色，它涉及到將微小的電路圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅片上的過程。隨著科技的進步和消費者對電子產(chǎn)品性能要求的提高，半導體行業(yè)不斷地向更小的制程節(jié)點發(fā)展，這使得對光刻技術(shù)的要求也日益嚴苛。、溫度控制在光刻技術(shù)中是至關(guān)重要的一個環(huán)節(jié)。光刻過程中，硅片需要在嚴格的溫度條件下進行處理，以確保圖案的精確轉(zhuǎn)移。即便是極微小的溫度波動，也可能導致圖案轉(zhuǎn)移時的不精確，影響芯片的性能和良率。在光刻過程中...
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