技術(shù)編號(hào)：40360932
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體有害氣體處理，尤其涉及一種燃燒式尾氣處理設(shè)備。背景技術(shù)、半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品如芯片制造中，各階段都會(huì)產(chǎn)生不同的廢氣，例如：薄膜沉積工藝的熱氧化工藝中產(chǎn)生含有未反應(yīng)的含鹵素氧化劑的酸性廢氣，cvd工藝產(chǎn)生含有sih、sicl、sihcl、ph、hf、hcl、nh等的廢氣，刻蝕工藝會(huì)產(chǎn)生酸、堿、有機(jī)廢氣，還包括一些氣態(tài)副產(chǎn)物(如h、no、nh等)，摻雜工藝會(huì)產(chǎn)生含磷烷、砷烷的酸性廢氣等。這些尾氣普遍具有有毒、易燃等性質(zhì)，處理不當(dāng)會(huì)產(chǎn)生嚴(yán)重的安全事故，造成嚴(yán)重的經(jīng)濟(jì)損失...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。