技術(shù)編號:40370819
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及晶圓加工,具體而言,涉及一種晶圓加工設(shè)備及其控制方法。背景技術(shù)、現(xiàn)有半導(dǎo)體加工的光刻工藝中,涂膠設(shè)備、光刻設(shè)備和顯影設(shè)備分別完成光刻膠涂布工藝流程、光刻工藝流程以及顯影工藝流程。隨著半導(dǎo)體加工工藝水平的提升,市場主流將涂膠顯影工藝流程集成在同一設(shè)備上。但是,在實際使用過程中,存在這樣一個問題:晶圓加工設(shè)備只用一個機器人,產(chǎn)能瓶頸在機器人上,產(chǎn)能小,同時占地面積大,導(dǎo)致生產(chǎn)車間的空間規(guī)劃不夠合理,因此,提供一種全新的晶圓加工設(shè)備,減少晶圓加工設(shè)備的占地面積,使得空間規(guī)劃更加合理,是十分...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。