技術(shù)編號(hào)：40377649
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及計(jì)算光刻，特別涉及一種掩模版圖優(yōu)化方法、程序產(chǎn)品、存儲(chǔ)介質(zhì)及設(shè)備。背景技術(shù)、在光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的工作中，常常需要對(duì)缺陷信息進(jìn)行檢測(cè)和處理，在獲取缺陷信息時(shí)候，工作人員常?？梢钥吹酱罅康娜毕菪畔ⅲ辉诤笃诘牡饪绦拚倪^(guò)程中，工作人員需要對(duì)特定的缺陷位置進(jìn)行修復(fù)，并且需要關(guān)注這些主要缺陷的位置。、目前光學(xué)規(guī)則檢查獲取的缺陷信息通常會(huì)記錄在數(shù)據(jù)庫(kù)中，工作人員可通過(guò)在數(shù)據(jù)庫(kù)中查找的方式來(lái)定位缺陷信息，但是對(duì)于比較大的版圖來(lái)說(shuō)，數(shù)據(jù)庫(kù)也會(huì)變的十分的巨大，在進(jìn)行光學(xué)鄰近效應(yīng)修正迭代的過(guò)程中，...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。
請(qǐng)注意，此類技術(shù)沒(méi)有源代碼，用于學(xué)習(xí)研究技術(shù)思路。