技術(shù)編號(hào)：40390783
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本技術(shù)涉及氣體室，屬于化學(xué)品集成式氣體室。背景技術(shù)、在大規(guī)模集成電路(ic)制造中需要使用大量高純度化學(xué)品，如rca清洗、濕式蝕刻等。隨著ic制程技術(shù)的不斷進(jìn)步，對高純電子級(jí)化學(xué)品生產(chǎn)分裝中的微粒子控制要求也越來越高。、集成電路(ic)制造已成為世界上最高新和最龐大的產(chǎn)業(yè)之一，在超大規(guī)模集成電路(ic)的生產(chǎn)中光刻工藝占據(jù)十分重要的地位。集成電路(ic)制造中，需要將掩膜母版上的幾何圖形先轉(zhuǎn)移到基片表面的光刻膠膠膜上，然后再通過從曝光到蝕刻等一系列處理技術(shù)把光刻膠膜上的圖像復(fù)制到襯底基片表面...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。
該類技術(shù)注重原理思路，無完整電路圖，適合研究學(xué)習(xí)。