技術(shù)編號：40399844
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及光刻機領(lǐng)域，尤其涉及一種背面套刻精度驗證及套刻誤差補償方法及系統(tǒng)。背景技術(shù)、現(xiàn)有的背面套刻驗證方法是將硅片正面(已有標記)朝下，通過背面對準系統(tǒng)對準后，在硅片背面涂膠曝光，使硅片正反面均有標記。通過套刻儀紅外線穿透硅片的方案，識別正反面圖案，讀取套刻后的誤差。、可以看出，現(xiàn)有技術(shù)需要硅片正反兩面兼涂膠曝光，并需要專業(yè)設(shè)備套刻儀來讀取套刻誤差。技術(shù)實現(xiàn)思路、本發(fā)明的主要目的在于解決現(xiàn)有技術(shù)中需要專業(yè)設(shè)備套刻儀來讀取套刻誤差的技術(shù)問題，本發(fā)明使用的背面套刻驗證的方法簡單高效并及時，且...
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