技術(shù)編號:40400255
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明屬于半導(dǎo)體器件,尤其是涉及一種集成溝槽和n型懸浮結(jié)的肖特基勢壘二極管及制備方法。背景技術(shù)、sic?jbs(碳化硅結(jié)勢壘肖特基二極管)是一種低功耗、大電流、超高速半導(dǎo)體器件。在當(dāng)前sic?jbs的主流器件中,器件正向?qū)〞r,為了降低器件正向?qū)娮?,p型離子注入摻雜區(qū)的面積要根據(jù)工藝能力設(shè)計為最小值,并且為了有效降低曲率效應(yīng)對器件反向擊穿電壓的影響,肖特基勢壘區(qū)域應(yīng)設(shè)計為圓形、正六邊形或正八邊形,相應(yīng)地p區(qū)作為阻止電流通過的區(qū)域,大多被設(shè)計成條形、方形、正六邊形等。、由于sic?pn結(jié)...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。