技術(shù)編號：40402221
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域，尤其是一種環(huán)控組件、光刻設(shè)備以及氣體變向通道的制造方法。背景技術(shù)、對于光路微環(huán)境的控制在特定領(lǐng)域的生產(chǎn)過程中起到至關(guān)重要的作用，以光刻機為例，對于讀頭光路微環(huán)境的控制直接影響到測量結(jié)果的準確性。、現(xiàn)有的環(huán)控技術(shù)多通過內(nèi)外兩側(cè)環(huán)形噴射口噴射不同流速的氣流來阻擋外部空氣進入讀頭的光路區(qū)域，使得讀頭的光路區(qū)域處于相對靜壓的區(qū)域，從而有效降低因運動臺高速運動所帶來的溫度及壓力的影響。、而隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，大尺寸平面光柵測量系統(tǒng)首次應(yīng)用于國產(chǎn)前道光刻機，基于全新的測量...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。