技術(shù)編號：40472350
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請涉及濾光結(jié)構(gòu)，具體涉及零維材料濾光結(jié)構(gòu)及光譜芯片。背景技術(shù)、目前cmos光譜芯片濾光結(jié)構(gòu)的主流做法是采用n層介質(zhì)膜堆疊，每層介質(zhì)膜含有不同的物質(zhì)成分(如某種稀有金屬的化合物)，每層介質(zhì)膜的厚度也不一樣，通過調(diào)節(jié)介質(zhì)膜的物質(zhì)成分和厚度，以及上下排列的順序，得到只允許特定波長光通過的濾光結(jié)構(gòu)。、相關(guān)技術(shù)中的介質(zhì)膜濾光結(jié)構(gòu)的厚度達(dá)-μm，厚度較大。技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路、本申請的實(shí)施例提供了一種零維材料濾光結(jié)構(gòu)及光譜芯片，可以改善介質(zhì)膜濾光結(jié)構(gòu)的厚度較大的技術(shù)問題。、第一方面，本申請的實(shí)施例提...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。