技術(shù)編號(hào):4428420
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種由半導(dǎo)體襯底的主體制造光學(xué)透鏡的工藝。背景技術(shù)在日本專利公開(kāi)No.55-13960中公開(kāi)了一種現(xiàn)有技術(shù),其涉及一種通過(guò) 陽(yáng)極化在半導(dǎo)體襯底的表面上制造微結(jié)構(gòu)的工藝。陽(yáng)極化用于在電解液中氧 化襯底的上表面。以與陽(yáng)極的排列相對(duì)應(yīng)的圖案,選擇性地在上表面中進(jìn)行 氧化。該陽(yáng)極獨(dú)立于襯底而形成,并且與襯底的下表面保持接觸,從而在襯 底的上表面上部分地留下氧化部分。此后,去除氧化部分,以在襯底的上表 面留下凸起。這種技術(shù)足以形成相對(duì)薄的輪廓或深度小的表面...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。